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国内首个半导体工艺保护流体材料重大突破

国内首个半导体工艺保护流体材料重大突破
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要点导读

  • 上海凯锐恩开发出晶圆级保护流体材料
  • 实现材料、设备、工艺三位一体
  • 绕开国外传统保护胶带专利壁垒
  • 产品已用于芯片先进封装领域

内容摘要

上海凯锐恩半导体科技历时近七年,成功开发出晶圆级工艺保护流体成型材料及配套热压成型设备,实现“材料+设备+工艺”三位一体。产品已应用于芯片先进封装领域,绕开国外传统保护胶带专利壁垒。

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