我国前道光刻装备自主化阶段性成果，上海微电子新一代光刻机模型亮相

内容摘要

第九届进博会上，上海微电子装备（SMEE）展出自主研发的新一代前道干式光刻机通用技术平台模型，展示国产前道光刻装备自主化的阶段性成果。该平台适配I-line、KrF技术路线，核心部件实现全链条自主可控。