消息称三星电子、SK 海力士均将向 ASML EUV 光刻机投资超 10 万亿韩元
要点导读
- 三星与 SK 海力士竞购 ASML EUV 光刻机
- 单家投资额达 10~20 万亿韩元
- EUV 是 AI 半导体产能增长关键
- SK 海力士 2026~2027 年采购 11.95 万亿韩元
- 三星 2028 年将 High NA EUV 用于 DRAM
内容摘要
据韩媒报道,三星电子与 SK 海力士正竞相采购 ASML 的 EUV 光刻机,相关投资额均在 10~20 万亿韩元区间。两家企业都在提升晶圆厂产能以受益于 AI 半导体浪潮,而 EUV 机台是产能增长的关键。SK 海力士已确认 2026~2027 年采购 11.95 万亿韩元设备,三星则计划 2028 年将 High NA EUV 用于 DRAM 量产。
阅读原文
原文来源:IT之家(ithome.com)。本页摘要与要点整理自公开来源,版权归原作者所有,完整内容请阅读原文。