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消息称三星电子、SK 海力士均将向 ASML EUV 光刻机投资超 10 万亿韩元

消息称三星电子、SK 海力士均将向 ASML EUV 光刻机投资超 10 万亿韩元
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要点导读

  • 三星与 SK 海力士竞购 ASML EUV 光刻机
  • 单家投资额达 10~20 万亿韩元
  • EUV 是 AI 半导体产能增长关键
  • SK 海力士 2026~2027 年采购 11.95 万亿韩元
  • 三星 2028 年将 High NA EUV 用于 DRAM

内容摘要

据韩媒报道,三星电子与 SK 海力士正竞相采购 ASML 的 EUV 光刻机,相关投资额均在 10~20 万亿韩元区间。两家企业都在提升晶圆厂产能以受益于 AI 半导体浪潮,而 EUV 机台是产能增长的关键。SK 海力士已确认 2026~2027 年采购 11.95 万亿韩元设备,三星则计划 2028 年将 High NA EUV 用于 DRAM 量产。

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